氨逃逸在線監測系統的技術應用分析！

　　氨逃逸在線監測系統采用高溫伴熱萃取技術，對脫硝過程中的污染因素進行連續監測。它具有靈敏度高、響應快、無背景氣體干擾和非接觸式光學測量等特點，為實時、準確地反映氨氣逸出量的變化提供了可靠的保證。

　　氨逸出量是影響SCR系統運行的重要參數。在實際生產過程中，通常會有超過理論量的氨進入反應器。反應后，煙氣下游多余的氨稱為氨逸出，用單位體積的氨含量表示。為了滿足環境保護的要求，往往需要一定量的氨，因此會有一個合適的氨逸出值，設計為不大于5ppm。

　　為了防止逸出的氨氣造成資金浪費和環境污染，逸出的氨氣會腐蝕催化劑模塊，造成催化劑失活（即失效）和堵塞，大大縮短催化劑的使用壽命，逸出的氨氣會與空氣中的SO3產生硫酸氨（腐蝕性和粘著性），從而堵塞和腐蝕位于退役下游的空氣預熱器的蓄熱元件；逸出的過量氨氣會被飛灰吸收，造成充氣塊（灰磚）無法銷售等危害；

　　氨逃逸在線監測系統主要解決在脫硝系統中存在高溫、高濕、高粉塵的惡劣環境，并能夠穩定、可靠、準確地檢測出1～3ppmV的微量逃逸氨氣濃度，其中模塊化激光分析儀和高溫預處理系統是我們公司在線分析系統的核心和關鍵技術。

　　該氨逃逸監測系統采用近現場采樣分析的方法。取樣口至分析測量罐的樣氣溫度高達200℃以上，過濾精度為0.3μM，設有高溫氣動閥，實現自動反吹掃功能，減少了維護工作量。

　　氨逃逸在線監測系統采用QCL+TDLAS技術，目標光譜是中紅外波段氨的很強吸收峰。分子光譜分析結果表明，氨分子的紅外吸收線比近紅外吸收線強幾十倍。在相同的測量條件下，檢測精度可達到ppb級，比近紅外TDLAS高幾十倍。氨逃逸系統采用新型半導體QCL作為激光光源，結合穩定可靠的光路設計和信號處理技術，使TDLAS光學傳感器技術達到了前所為有的精度和穩定性，解決了近紅外氨表穩定性和精度差的情況，*可以滿足市場需求。